Lift-out Shuttle(LOS) [Shuttleシステム]

kle_los200
 「Lift-out Shuttle」(LOS)は、FIBでのTEM試料のリフトアウトに特化され、XYZ(またはXYZR)ステージとマクログリッパーから構成されます。グリッパーはShuttleプラットホームに固定されており、プラットホーム中心に配置されたステージを動かすことで、試料薄片のリフトアウトおよびTEMグリッドへの移動を行います。
 LOSを用いることで、従来のFIB法TEM試料作製の工程を短縮することが可能です。真空対応の電子線硬化接着剤「SEMGLU」を併用することで、IBID(Ion Beam Induced Deposition)を必要とせず、試料汚染を減らし、ランニングコストも低減できます。
 リフトアウトから固定までの工程をFIBでなく、SEMで行うことも可能です。

 

kle_los3
 *1 : 試料のリフトアウト (マイクログリッパー MGS2-EM)
kle_los2    LOSでは試料のリフトアウトにグリッパーを用います。従来のプローブ針を使った手法と比較すると、リフトアウト時のプローブ-試料のデポジッション(IBID、および試料をグリッドに移し替えた後に行うプローブの切り離し工程を省くことができます。もちろんプローブの交換も不要であり、グリッパーは繰返し使用することができます。
 
 *2 : 試料の固定 (電子線硬化接着剤 SEMGLU)
kle_los6

 

 リフトアウトした試料とグリッドの固定には、従来通りIBIDを利用することも可能ですが、真空対応の電子線硬化接着剤「SEMGLU」を用いることができます。

 予めグリッドに少量の接着剤を付着させておき、試料を接着剤の付いた部分に移動します。接着剤は電子線を局所的に絞って照射することでのみ硬化します。(ex.ビーム電流1nA@Magx50000で約1分)。

 
 *3 : アプローチ / コンタクト (XYZピエゾステージ)
kle_los7

 

 試料の位置決め (マニピュレーション)に用います。ステージはグリッパーと独立し、ステージ制御で試料をグリッパーtipおよび、グリッドピンへアプローチします。ピエゾ駆動による精密な動作は、試料のアプローチを確実かつ容易にします。

 

 

SEM kle_los_image1 kle_los_image2 kle_los_image7 kle_los_image5
       ⇒         ⇒      ⇒
FIB kle_los_image3 kle_los_image4 kle_los_image6
  リフトアウト    アプローチ 固定 リリース

 

 ― 仕様 ―

■ Lift-out SHUTTLE  本体

・ 制御:コントローラ (フロントノブ)または、ジョイパッド

・ 取付け:SHUTTLE マウント (ロードロック経由)

・ サイズ:W72 x D48 x H26 mm

■ ピエゾステージ

・ 動作モード:Fine (微動) / Coase (粗動)

・ 動作軸:XYZ (オプション:R)

・ 分解能 (Fine):<0.5 nm

・ レンジ(Coase):XY=10mm / Z=3mm

■ マイクログリッパー

・ グリップ面積:(5~10μm)2

・ 分解能:20 nm

・ 開閉レンジ:0~20-40μm

・ グリップ力:可変 (μN~mN)

 

Lift-out Shuttle(LOS) [Shuttleシステム]/カタログダウンロード

製品に関してのお問い合わせ
弊社では、各製品のカタログや資料をご用意しております。
デモ機在庫の有る製品も御座いますので、不明な点や価格的なご質問と共にお問い合わせよりご連絡下さい。
現在お客様の方で考えられているご使用目的、必要スペック、PC環境等を合わせてご連絡頂ければ該当する商品担当者よりご提案させて頂きます。 (お探しの商品が見付からない場合はお気軽にお問い合わせ下さい。)