Q150/Q300シリーズ

スパッタコーター/カーボンコーター

チャンバーサイズから「Q150」と「Q300」に大別され、次に高真空仕様(TMP搭載)と低真空仕様(RP)とに
分類されます。
Q150シリーズでは、スパッタリング/カーボン蒸着/ハイブリッドの3タイプがあり、
Q300シリーズでは、デュアルターゲット(2元)とトリプルターゲット(1元)の2タイプがあります。

Q150シリーズQ300シリーズマグネトロンスパッタコーターカーボンコーター製品動画
 
Q150シリーズ

 ●φ150mmチャンバー

 ●TMP搭載高真空タイプ(Q150T)

  or RP低真空タイプ(Q150R)

 ●スパッタリング or カーボン蒸着 

  or ハイブリッド(スパッタ 兼 蒸着)

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 例)

①チャンバーサイズ

②真空ポンプ

 

③製膜モード

:[150] 内径150mm

:[T] ターボ分子ポンプ搭載、高真空仕様/

 [R] ロータリーポンプ搭載、低真空仕様

:[S] スパッタリング/[E]カーボン蒸着/[ES]ハイブリッド

  Q 150 T ES  
 
 
Q150GB [グローブボックス用]
コーター本体, 制御スクリーン, 電源ボックスをモジュール設計し、本体をグローブボックス内に組込むことを可能にしました。
グローブボックス床面をコーター本体のサイズに切り抜き、そこにガスケットを介して本体を嵌めこみます。
制御は大気側に置かれるタッチパネルスクリーンからリモートで行われ、電源モジュールと真空ポンプはグローブボックスの下側に置かれます。
コーターの基本仕様はQ150T ES と同等です。
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Q300シリーズ

 ●φ300mmチャンバー,8incnウエハまで対応

  (Q300tDは6"まで) 

 ●TMP搭載高真空タイプ(Q300T)

  or RP低真空タイプ(Q300R)

 ●スパッタリング(2元)

  or トリプルターゲット(1元)

  ※2元同時スパッタは出来ません

 ●スパッタリングのみ

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 例)

①チャンバーサイズ

②真空ポンプ

 

③製膜モード

:[300] 外径300mm

:[T] ターボ分子ポンプ搭載、高真空仕様/

 [R] ロータリーポンプ搭載、低真空仕様

:[D]デュアル(2元)/[T]トリプル(1元)

  Q 300 T D  
 

 

スパッタコーター(マグネトロンスパッタ)

プラズマ放電によりターゲット金属(Au, Cr etc)をスパッタして、試料や基板の表面にターゲット材料を付着・製膜させる装置です。

 

試料チャンバー内を真空引きした後、不活性ガス(主にArガス)を導入し ターゲットにマイナスの高電圧を印加してグロー放電を発生させます。
プラズマ空間でイオン化したアルゴン(Ar+)は、陰極のターゲットに高速で引きつけられて、ターゲット表面の原子を叩き出します。
叩き出された原子は、対向に配置した試料や基板の表面に付着して薄膜を形成します。

 

Qシリーズはターゲットの裏面に永久磁石を内蔵したマグネトロン型で、磁場によりターゲット近傍に電子を囲いこむことで、Ar+の生成効率が増えると同時にターゲットのスパッタ効率を増加し、製膜スピートを速くします。また、イオン衝撃による試料ダメージを低減する効果もあります。
スパッタリングは真空蒸着と比較して、高融点金属の製膜が可能な点や、粒子エネルギーが大きいことにより付着力が強い、といった利点があります。

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カーボンコーター(カーボン蒸着)

真空蒸着法によりカーボンを製膜します。金属や金属酸化物などの蒸着材料を真空中で加熱して、蒸発または昇華させます。
気体分子になった蒸着材料が試料や基板の表面に付着・堆積して薄膜を形成します。スパッタ法よりも以前から実用化されている方式です。

 

材料の加熱方法には、抵抗加熱、高周波誘導加熱、電子ビーム加熱などがありますが、Q シリーズでは抵抗加熱式となります。
カーボン蒸着の場合、蒸着源としてカーボンファイバーを編紐にしたものと、ロッド状のものがあります。
いずれも蒸着前に通電して脱ガスし、その後大電流を流してカーボンを蒸発させ、蒸発したカーボンが試料に蒸着されます。

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製品動画

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