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リモートプラズマクリーナー

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 分離されたプラズマソースとコントローラで構成され、ソースはFE-SEMやXPS, EPMAなどの試料チャンバーもしくは試料交換室などに接続されます。接続された試料チャンバーやチャンバー内の試料をプラズマクリーニングすることで、高真空装置におけるカーボン系コンタミネーションを予防・除去します。

 プラズマソース内で生成された活性酸素ラジカルが、真空装置付随のターボ分子ポンプで試料室内に引かれて拡散します(ダウンストリーム)。残留したハイドロカーボンガス分子とラジカルが化学的に反応(低温灰化=アッシング)し、反応による副生成物は真空ポンプで試料室外に排出されることで、試料室内をクリーニングします。

 

 

ターボ分子ポンプ領域で運転可

プラズマソースを設置した試料室の真空度が、0.1mTorr~2Torrレンジでプラズマ点火が可能です。
試料室を大気開放する必要が無く、高真空状態から即プラズマクリーニングが可能で、ターボポンプの回転数を下げることなくプロセスを実行します。
ターボポンプを止めないため、クリーニング後わずか数分で既定の真空度に回復します。

※設置する装置や設置箇所(試料室/交換室), 使用目的によって条件は大きく異なります。詳細は別途お問合わせ下さい

 

秀逸なユーザーI/Fデザイン

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超Highスピードクリーニング


使用済みのアパーチャープレートのように、クリーニング対処物がひどく汚染されている場合、プラズマソースとアダプタの間の「ブースターチューブ」内でクリーニングすることで、超高速クリーニングが可能です。

pie_operation_screen.

 

SafeモードとExpertモード

高電圧がかかる検出器を備えたFE-SEMのような分析装置で、ユーザーが装置自体に不慣れな場合、より安全にクリーニングを実施するためのモードが「Safeモード」です。

安全に高電圧をoffする手順を知っているユーザーは、融通性のある「Expertモード」がお勧めです。

 

選べるコントローラ

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19"ラックモデル(オプション) ポータブル卓上モデル

 

マスフロー制御ガス混合器(オプション)

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Airを導入して行うプラズマクリーニングは、活性酸素による酸化反応によります。
酸化が許容できない場合は、水素プラズマ(原子状水素)による還元反応によりメタン系炭化水素(CHx)に反応させてクリーニングする方法があります。

複数のプロセスガスを混合して実験する場合には、最大3系統のマスフローガス入力ポートと、1系統のVent/Bypassポート、1口の出力ポートを備えたガス混合器が便利です


 ■タッチスクリーンI/F
 ■3系統のマスフローコントローラ
 ■タイマー機能


※酸素ガス、水素ガスを使用する場合は、プラズマ耐性の真空ポンプを使用して下さい。
※酸素ガス, 水素ガス等の使用は、ガスの安全マニュアルに沿ってご使用下さい。

 

 

製品ラインナップ

em_kleen_source1 EM-KLEEN

 リモートタイプのベーシックモデル。一般的な高真空チャンバー向け。

semi-kleen_quartz_plasma_cleaner SEMI-KLEEN quartz

 半導体インライン装置向け。ガス導入ラインにnmサイズのパーティクルを除去する超微細フィルターを搭載。

 また、自動インピーダンスマッチング機能も有り。SEMI-KLEEN Sapphireのように、特定用途向けにカスタマイズも可能です。例えば、SEMI-KLEENプラズマクリーナーは、ALDシステムでエッチング/デポジション用途として使用されています。

semi-kleen_sapphire_plasma_cleaner SEMI-KLEEN sapphire

 反応性ガス・腐食性ガスに適応するため、プラズマチューブにサファイアを使用。 (H2, NH3, NF3, CF4 etc)

 

 

製品仕様

  EM-KLEEN SEMI-KLEEN quartz SEMI-KLEEN sapphire
 用途  SEM, TEM, XPS, SIMS, AES  SEM, TEM, XPS, SIMS, AES, CD-SEM, EB-Litho  ALD, EUV-Litho for NF3, CF4, NH3, H2, HF, H2S プラズマ
 チャンバー  石英ガラスチューブ  サファイアチューブ
 プラズマ方式  ICP(Induced Couppled Plasma)[誘導結合型]
 RF出力  0~75W at 13.56MHz  0~75W at 13.56MHz (オプション: 0~100W)
 動作真空度(ソース内)  7mTorr ~ 1 Torr
 真空チャンバー真空度
(ダウンストリーム側)※
 0.1mTorr ~ 1Torr
 真空計  マイクロピラニゲージ内蔵、大気~1e-4Torr
 インピーダンス整合  固定  固定 or オート
 腐食性ガス  不可  可
 ソースマウント形状  NW/KF40 (オプション CF2.75” [CF70])
 PC制御  RS232/RS485, Windows.Net Framework 4.0以上
 コントローラ  可搬型、4inchタッチパネル、シリアル通信ポート(D-sub9)
 ソース~コントローラ間ケーブル 4.5m
 サイズ  プラズマソース:φ86 x L168(mm)
 コントローラ:W305 x D 340 x H 200(mm)
 電源  110~230VAC, 50/60Hz, 100W以下

※真空装置の仕様(特にチャンバーサイズやポンプスピード)やソースの設置個所、使用目的や使用方法により大きく異なります。

 

製品に関してのお問い合わせ
弊社では、各製品のカタログや資料をご用意しております。
デモ機在庫の有る製品も御座いますので、不明な点や価格的なご質問と共にお問い合わせよりご連絡下さい。
現在お客様の方で考えられているご使用目的、必要スペック、PC環境等を合わせてご連絡頂ければ該当する商品担当者よりご提案させて頂きます。 (お探しの商品が見付からない場合はお気軽にお問い合わせ下さい。)